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电镀设备工艺的基本要求是什么?

发布时间:2019-08-19来源:昆山环泰科技

电镀工艺是一种以电镀传统金属材料为阴极,根据钛电极的作用,使电镀液钝化火成岩中的正离子在酸性盐水溶液中电镀而成的一种表面生产和加工方法,以电镀为属的酸性盐水溶液,其镀层特性不同于传统金属材料,具有新的特点。根据镀层的功能,可分为防护涂层、装饰艺术涂层及其多功能涂层。电镀设备工艺的基本要求是什么?

电镀设备工艺

电镀设备工艺基本要求:

1.涂层与传统金属材料之间、涂层与涂层之间必须具有良好的附着力。

2.涂层应该是细的,光滑的,薄的,厚的和对称的。

3.涂层应具有所需的薄厚度和尽可能少的孔隙度。

5.涂层应具有所需的指标值,如光泽、强度、电导率等。

6.电镀过程的温度和电镀过程的全过程,以及镀层厚度的大小。

7.工作温度为-12℃~65℃。

8.工作电压为230 V±26V或220 V±37V。

9.净水设备工作中的噪音不应超过90分贝(A)。

10.空气湿度不应超过百分之九十六。

11.水源水中COD含量为150 mg/L~1500 mg/L。

以上就是小编为大家分享的电镀设备工艺基本要求。

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